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評價(jià)信息：
影響因子：2.6
年發(fā)文量：100
《微電子工程》(Microelectronic Engineering)是一本以工程技術(shù)-工程：電子與電氣綜合研究為特色的國際期刊。該刊由Elsevier出版商創(chuàng)刊于1983年，刊期Monthly。該刊已被國際重要權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄。期刊聚焦工程技術(shù)-工程：電子與電氣領(lǐng)域的重點(diǎn)研究和前沿進(jìn)展，及時(shí)刊載和報(bào)道該領(lǐng)域的研究成果，致力于成為該領(lǐng)域同行進(jìn)行快速學(xué)術(shù)交流的信息窗口與平臺(tái)。該刊2023年影響因子為2.6。CiteScore指數(shù)值為5.3。
Microelectronic Engineering is the premier nanoprocessing, and nanotechnology journal focusing on fabrication of electronic, photonic, bioelectronic, electromechanic and fluidic devices and systems, and their applications in the broad areas of electronics, photonics, energy, life sciences, and environment. It covers also the expanding interdisciplinary field of "more than Moore" and "beyond Moore" integrated nanoelectronics / photonics and micro-/nano-/bio-systems. Through its unique mixture of peer-reviewed articles, reviews, accelerated publications, short and Technical notes, and the latest research news on key developments, Microelectronic Engineering provides comprehensive coverage of this exciting, interdisciplinary and dynamic new field for researchers in academia and professionals in industry.
《微電子工程》是首屈一指的納米加工和納米技術(shù)期刊，專注于電子、光子、生物電子、機(jī)電和流體設(shè)備和系統(tǒng)的制造，以及它們在電子、光子學(xué)、能源、生命科學(xué)和環(huán)境等廣泛領(lǐng)域的應(yīng)用。它還涵蓋了不斷擴(kuò)展的跨學(xué)科領(lǐng)域，即“超過摩爾”和“超越摩爾”集成納米電子學(xué)/光子學(xué)和微/納米/生物系統(tǒng)。通過其獨(dú)特的同行評審文章、評論、加速出版物、簡短和技術(shù)說明以及有關(guān)關(guān)鍵發(fā)展的最新研究新聞的混合，《微電子工程》為學(xué)術(shù)界研究人員和行業(yè)專業(yè)人士提供了對這一令人興奮、跨學(xué)科且充滿活力的新領(lǐng)域的全面報(bào)道。
《Microelectronic Engineering》(微電子工程)編輯部通訊方式為ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE。如果您需要協(xié)助投稿或潤稿服務(wù)，您可以咨詢我們的客服老師。我們專注于期刊咨詢服務(wù)十年，熟悉發(fā)表政策，可為您提供一對一投稿指導(dǎo)，避免您在投稿時(shí)頻繁碰壁，節(jié)省您的寶貴時(shí)間，有效提升發(fā)表機(jī)率，確保SCI檢索（檢索不了全額退款）。我們視信譽(yù)為生命，多方面確保文章安全保密，在任何情況下都不會(huì)泄露您的個(gè)人信息或稿件內(nèi)容。
2023年12月升級(jí)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
2022年12月升級(jí)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月舊的升級(jí)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月基礎(chǔ)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 4區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
2021年12月升級(jí)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 | 3區(qū) 3區(qū) 4區(qū) 4區(qū) | 否 | 否 |
2020年12月舊的升級(jí)版
| 大類學(xué)科 | 分區(qū) | 小類學(xué)科 | 分區(qū) | Top期刊 | 綜述期刊 |
| 工程技術(shù) | 3區(qū) | ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC 工程：電子與電氣 NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY 納米科技 OPTICS 光學(xué) PHYSICS, APPLIED 物理：應(yīng)用 | 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū) | 否 | 否 |
基礎(chǔ)版：即2019年12月17日，正式發(fā)布的《2019年中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心期刊分區(qū)表》；將JCR中所有期刊分為13個(gè)大類,期刊范圍只有SCI期刊。
升級(jí)版：即2020年1月13日，正式發(fā)布的《2019年中國科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心期刊分區(qū)表升級(jí)版（試行）》,升級(jí)版采用了改進(jìn)后的指標(biāo)方法體系對基礎(chǔ)版的延續(xù)和改進(jìn)，影響因子不再是分區(qū)的唯一或者決定性因素，也沒有了分區(qū)的IF閾值期刊由基礎(chǔ)版的13個(gè)學(xué)科擴(kuò)展至18個(gè)，科研評價(jià)將更加明確。期刊范圍有SCI期刊、SSCI期刊。從2022年開始，分區(qū)表將只發(fā)布升級(jí)版結(jié)果，不再有基礎(chǔ)版和升級(jí)版之分,基礎(chǔ)版和升級(jí)版（試行）將過渡共存三年時(shí)間。
JCR分區(qū)等級(jí)：Q2
| 按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q2 | 157 / 352 |
55.5% |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 94 / 140 |
33.2% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q2 | 45 / 119 |
62.6% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 81 / 179 |
55% |
| 按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) | 收錄子集 | 分區(qū) | 排名 | 百分位 |
| 學(xué)科：ENGINEERING, ELECTRICAL & ELECTRONIC | SCIE | Q3 | 179 / 354 |
49.58% |
| 學(xué)科：NANOSCIENCE & NANOTECHNOLOGY | SCIE | Q3 | 74 / 140 |
47.5% |
| 學(xué)科：OPTICS | SCIE | Q3 | 64 / 120 |
47.08% |
| 學(xué)科：PHYSICS, APPLIED | SCIE | Q2 | 88 / 179 |
51.12% |
| Gold OA文章占比 | 研究類文章占比 | 文章自引率 |
| 15.94% | 91.00% | 0.04... |
| 開源占比 | 出版國人文章占比 | OA被引用占比 |
| 0.03... | 0.14 | 0.12... |
名詞解釋：JCR分區(qū)在學(xué)術(shù)期刊評價(jià)、科研成果展示、科研方向引導(dǎo)以及學(xué)術(shù)交流與合作等方面都具有重要的價(jià)值。通過對期刊影響因子的精確計(jì)算和細(xì)致劃分，JCR分區(qū)能夠清晰地反映出不同期刊在同一學(xué)科領(lǐng)域內(nèi)的相對位置，從而幫助科研人員準(zhǔn)確識(shí)別出高質(zhì)量的學(xué)術(shù)期刊。
| CiteScore | SJR | SNIP | CiteScore 指數(shù) | ||||||||||||||||||||||||
| 5.3 | 0.503 | 0.847 |
|
名詞解釋：CiteScore是基于Scopus數(shù)據(jù)庫的全新期刊評價(jià)體系。CiteScore 2021 的計(jì)算方式是期刊最近4年（含計(jì)算年度）的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻(xiàn)數(shù)。CiteScore基于全球最廣泛的摘要和引文數(shù)據(jù)庫Scopus，適用于所有連續(xù)出版物，而不僅僅是期刊。目前CiteScore 收錄了超過 26000 種期刊，比獲得影響因子的期刊多13000種。被各界人士認(rèn)為是影響因子最有力的競爭對手。
歷年中科院分區(qū)趨勢圖
歷年IF值(影響因子)
歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量
歷年自引數(shù)據(jù)
2019-2021年國家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)
| 國家/地區(qū) | 數(shù)量 |
| CHINA MAINLAND | 104 |
| South Korea | 80 |
| France | 56 |
| USA | 47 |
| Japan | 45 |
| GERMANY (FED REP GER) | 41 |
| India | 36 |
| Taiwan | 31 |
| Greece | 27 |
| Italy | 27 |
2019-2021年機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)
| 機(jī)構(gòu) | 數(shù)量 |
| CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIF... | 38 |
| CEA | 22 |
| COMMUNAUTE UNIVERSITE GRENOBLE ALPES | 18 |
| CHINESE ACADEMY OF SCIENCES | 15 |
| FUDAN UNIVERSITY | 14 |
| TECHNICAL UNIVERSITY OF DENMARK | 13 |
| AUTONOMOUS UNIVERSITY OF BARCELONA | 12 |
| CONSIGLIO NAZIONALE DELLE RICERCHE (CNR) | 12 |
| NATIONAL CENTRE OF SCIENTIFIC RESEARCH D... | 12 |
| CONSEJO SUPERIOR DE INVESTIGACIONES CIEN... | 10 |
2019-2021年文章引用數(shù)據(jù)
| 文章引用名稱 | 引用次數(shù) |
| Beyond the lateral flow assay: A review ... | 40 |
| 3D printed microfluidics and microelectr... | 36 |
| Brain-inspired computing with resistive ... | 36 |
| Emerging trends in wide band gap semicon... | 32 |
| Focused electron beam induced deposition... | 29 |
| Micropumps and biomedical applications -... | 25 |
| Conduction mechanisms, dynamics and stab... | 17 |
| Beyond 100 nm resolution in 3D laser lit... | 17 |
| Microfluidic platforms for cell cultures... | 17 |
| Using block copolymers as infiltration s... | 11 |
2019-2021年文章被引用數(shù)據(jù)
| 被引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| MICROELECTRON ENG | 365 |
| ECS J SOLID STATE SC | 204 |
| MICROMACHINES-BASEL | 153 |
| JPN J APPL PHYS | 148 |
| MATER RES EXPRESS | 130 |
| APPL SURF SCI | 127 |
| J MATER SCI-MATER EL | 127 |
| ACS APPL MATER INTER | 114 |
| MATERIALS | 94 |
| IEEE T ELECTRON DEV | 93 |
2019-2021年引用數(shù)據(jù)
| 引用期刊名稱 | 數(shù)量 |
| MICROELECTRON ENG | 365 |
| APPL PHYS LETT | 348 |
| J APPL PHYS | 170 |
| IEEE T ELECTRON DEV | 165 |
| LAB CHIP | 157 |
| IEEE ELECTR DEVICE L | 115 |
| SCI REP-UK | 106 |
| OPT EXPRESS | 103 |
| ADV MATER | 96 |
| J ELECTROCHEM SOC | 95 |
中科院分區(qū)：1區(qū)
影響因子：7.7
審稿周期：約Time to first decision: 9 days; Review time: 64 days; Submission to acceptance: 82 days; 約2.7個(gè)月 約7.8周
中科院分區(qū)：1區(qū)
影響因子：8.1
審稿周期：約Time to first decision: 6 days; Review time: 44 days; Submission to acceptance: 54 days; 約4.1個(gè)月 約6.8周
中科院分區(qū)：3區(qū)
影響因子：3.3
審稿周期：約17.72天 11 Weeks
中科院分區(qū)：1區(qū)
影響因子：98.4
審稿周期： 約3月
中科院分區(qū)：2區(qū)
影響因子：5.8
審稿周期： 約2.4個(gè)月 約7.6周
中科院分區(qū)：2區(qū)
影響因子：5.1
審稿周期： 約1.9個(gè)月 約2.7周
若用戶需要出版服務(wù)，請聯(lián)系出版商：ELSEVIER SCIENCE BV, PO BOX 211, AMSTERDAM, NETHERLANDS, 1000 AE。
