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    Plasma Chemistry And Plasma Processing

    評(píng)價(jià)信息:

    影響因子:2.6

    年發(fā)文量:123

    等離子化學(xué)和等離子處理 SCIE

    Plasma Chemistry And Plasma Processing

    《等離子化學(xué)和等離子處理》(Plasma Chemistry And Plasma Processing)是一本以工程技術(shù)-工程:化工綜合研究為特色的國(guó)際期刊。該刊由Springer US出版商創(chuàng)刊于1981年,刊期Quarterly。該刊已被國(guó)際重要權(quán)威數(shù)據(jù)庫(kù)SCIE收錄。期刊聚焦工程技術(shù)-工程:化工領(lǐng)域的重點(diǎn)研究和前沿進(jìn)展,及時(shí)刊載和報(bào)道該領(lǐng)域的研究成果,致力于成為該領(lǐng)域同行進(jìn)行快速學(xué)術(shù)交流的信息窗口與平臺(tái)。該刊2023年影響因子為2.6。CiteScore指數(shù)值為5.9。

    投稿咨詢(xún) 加急發(fā)表

    期刊簡(jiǎn)介預(yù)計(jì)審稿時(shí)間: 較慢,6-12周

    Publishing original papers on fundamental and applied research in plasma chemistry and plasma processing, the scope of this journal includes processing plasmas ranging from non-thermal plasmas to thermal plasmas, and fundamental plasma studies as well as studies of specific plasma applications. Such applications include but are not limited to plasma catalysis, environmental processing including treatment of liquids and gases, biological applications of plasmas including plasma medicine and agriculture, surface modification and deposition, powder and nanostructure synthesis, energy applications including plasma combustion and reforming, resource recovery, coupling of plasmas and electrochemistry, and plasma etching. Studies of chemical kinetics in plasmas, and the interactions of plasmas with surfaces are also solicited. It is essential that submissions include substantial consideration of the role of the plasma, for example, the relevant plasma chemistry, plasma physics or plasma–surface interactions; manuscripts that consider solely the properties of materials or substances processed using a plasma are not within the journal’s scope.

    本期刊發(fā)表有關(guān)等離子體化學(xué)和等離子體處理基礎(chǔ)和應(yīng)用研究的原創(chuàng)論文,范圍包括從非熱等離子體到熱等離子體的處理等離子體、等離子體基礎(chǔ)研究以及特定等離子體應(yīng)用的研究。此類(lèi)應(yīng)用包括但不限于等離子體催化、環(huán)境處理(包括液體和氣體處理)、等離子體的生物應(yīng)用(包括等離子體醫(yī)學(xué)和農(nóng)業(yè))、表面改性和沉積、粉末和納米結(jié)構(gòu)合成、能源應(yīng)用(包括等離子體燃燒和重整)、資源回收、等離子體與電化學(xué)的耦合以及等離子體蝕刻。還征集等離子體化學(xué)動(dòng)力學(xué)研究以及等離子體與表面的相互作用。投稿必須充分考慮等離子體的作用,例如相關(guān)的等離子體化學(xué)、等離子體物理或等離子體-表面相互作用;僅考慮使用等離子體處理的材料或物質(zhì)的性質(zhì)的稿件不在本期刊的范圍內(nèi)。

    《Plasma Chemistry And Plasma Processing》(等離子化學(xué)和等離子處理)編輯部通訊方式為SPRINGER, 233 SPRING ST, NEW YORK, USA, NY, 10013。如果您需要協(xié)助投稿或潤(rùn)稿服務(wù),您可以咨詢(xún)我們的客服老師。我們專(zhuān)注于期刊咨詢(xún)服務(wù)十年,熟悉發(fā)表政策,可為您提供一對(duì)一投稿指導(dǎo),避免您在投稿時(shí)頻繁碰壁,節(jié)省您的寶貴時(shí)間,有效提升發(fā)表機(jī)率,確保SCI檢索(檢索不了全額退款)。我們視信譽(yù)為生命,多方面確保文章安全保密,在任何情況下都不會(huì)泄露您的個(gè)人信息或稿件內(nèi)容。

    中科院分區(qū)

    2023年12月升級(jí)版

    大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    物理與天體物理 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

    2022年12月升級(jí)版

    大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 2區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

    2021年12月舊的升級(jí)版

    大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

    2021年12月基礎(chǔ)版

    大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 4區(qū) 3區(qū) 2區(qū)

    2021年12月升級(jí)版

    大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)

    2020年12月舊的升級(jí)版

    大類(lèi)學(xué)科 分區(qū) 小類(lèi)學(xué)科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 3區(qū) ENGINEERING, CHEMICAL 工程:化工 PHYSICS, APPLIED 物理:應(yīng)用 PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS 物理:流體與等離子體 3區(qū) 3區(qū) 3區(qū)
    名詞解釋?zhuān)?

    基礎(chǔ)版:即2019年12月17日,正式發(fā)布的《2019年中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心期刊分區(qū)表》;將JCR中所有期刊分為13個(gè)大類(lèi),期刊范圍只有SCI期刊。

    升級(jí)版:即2020年1月13日,正式發(fā)布的《2019年中國(guó)科學(xué)院文獻(xiàn)情報(bào)中心期刊分區(qū)表升級(jí)版(試行)》,升級(jí)版采用了改進(jìn)后的指標(biāo)方法體系對(duì)基礎(chǔ)版的延續(xù)和改進(jìn),影響因子不再是分區(qū)的唯一或者決定性因素,也沒(méi)有了分區(qū)的IF閾值期刊由基礎(chǔ)版的13個(gè)學(xué)科擴(kuò)展至18個(gè),科研評(píng)價(jià)將更加明確。期刊范圍有SCI期刊、SSCI期刊。從2022年開(kāi)始,分區(qū)表將只發(fā)布升級(jí)版結(jié)果,不再有基礎(chǔ)版和升級(jí)版之分,基礎(chǔ)版和升級(jí)版(試行)將過(guò)渡共存三年時(shí)間。

    JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

    JCR分區(qū)等級(jí):Q2

    按JIF指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
    學(xué)科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q3 91 / 170

    46.8%

    學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 81 / 179

    55%

    學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 12 / 40

    71.3%

    按JCI指標(biāo)學(xué)科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
    學(xué)科:ENGINEERING, CHEMICAL SCIE Q2 55 / 171

    68.13%

    學(xué)科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q2 69 / 179

    61.73%

    學(xué)科:PHYSICS, FLUIDS & PLASMAS SCIE Q2 17 / 40

    58.75%

    Gold OA文章占比 研究類(lèi)文章占比 文章自引率
    14.18% 95.12% 0.08...
    開(kāi)源占比 出版國(guó)人文章占比 OA被引用占比
    0.09... 0.18 0.08...

    名詞解釋?zhuān)?b>JCR分區(qū)在學(xué)術(shù)期刊評(píng)價(jià)、科研成果展示、科研方向引導(dǎo)以及學(xué)術(shù)交流與合作等方面都具有重要的價(jià)值。通過(guò)對(duì)期刊影響因子的精確計(jì)算和細(xì)致劃分,JCR分區(qū)能夠清晰地反映出不同期刊在同一學(xué)科領(lǐng)域內(nèi)的相對(duì)位置,從而幫助科研人員準(zhǔn)確識(shí)別出高質(zhì)量的學(xué)術(shù)期刊。

    CiteScore 指數(shù)(2024年最新版)

    CiteScore SJR SNIP CiteScore 指數(shù)
    5.9 0.48 0.912
    學(xué)科類(lèi)別 分區(qū) 排名 百分位
    大類(lèi):Physics and Astronomy 小類(lèi):Condensed Matter Physics Q1 108 / 434

    75%

    大類(lèi):Physics and Astronomy 小類(lèi):Surfaces, Coatings and Films Q2 34 / 132

    74%

    大類(lèi):Physics and Astronomy 小類(lèi):General Chemical Engineering Q2 79 / 273

    71%

    大類(lèi):Physics and Astronomy 小類(lèi):General Chemistry Q2 119 / 408

    70%

    名詞解釋?zhuān)?b>CiteScore是基于Scopus數(shù)據(jù)庫(kù)的全新期刊評(píng)價(jià)體系。CiteScore 2021 的計(jì)算方式是期刊最近4年(含計(jì)算年度)的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻(xiàn)數(shù)。CiteScore基于全球最廣泛的摘要和引文數(shù)據(jù)庫(kù)Scopus,適用于所有連續(xù)出版物,而不僅僅是期刊。目前CiteScore 收錄了超過(guò) 26000 種期刊,比獲得影響因子的期刊多13000種。被各界人士認(rèn)為是影響因子最有力的競(jìng)爭(zhēng)對(duì)手。

    數(shù)據(jù)趨勢(shì)圖

    歷年中科院分區(qū)趨勢(shì)圖

    歷年IF值(影響因子)

    歷年引文指標(biāo)和發(fā)文量

    歷年自引數(shù)據(jù)

    發(fā)文數(shù)據(jù)

    2019-2021年國(guó)家/地區(qū)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)

    國(guó)家/地區(qū) 數(shù)量
    CHINA MAINLAND 70
    Russia 37
    USA 29
    France 26
    GERMANY (FED REP GER) 21
    Czech Republic 15
    Iran 14
    India 12
    Japan 12
    Poland 11

    2019-2021年機(jī)構(gòu)發(fā)文量統(tǒng)計(jì)

    機(jī)構(gòu) 數(shù)量
    RUSSIAN ACADEMY OF SCIENCES 24
    CENTRE NATIONAL DE LA RECHERCHE SCIENTIF... 21
    CZECH ACADEMY OF SCIENCES 10
    XI'AN JIAOTONG UNIVERSITY 10
    CHINESE ACADEMY OF SCIENCES 9
    DALIAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY 9
    COMENIUS UNIVERSITY BRATISLAVA 7
    IVANOVO STATE UNIVERSITY OF CHEMISTRY & ... 7
    STATE UNIVERSITY SYSTEM OF FLORIDA 7
    KOREA UNIVERSITY 6

    2019-2021年文章引用數(shù)據(jù)

    文章引用名稱(chēng) 引用次數(shù)
    Effect of Cold Atmospheric Pressure Plas... 23
    Cold Atmospheric Pressure Plasma Can Ind... 14
    Inactivation of Shewanella putrefaciens ... 13
    Seed Priming with Non-thermal Plasma Mod... 13
    Stimulation of the Germination and Early... 12
    Evaluation of Oxidative Species in Gaseo... 12
    Non-thermal Plasma Induced Expression of... 11
    Effect of the Magnetic Field on the Magn... 9
    On the Possibilities of Straightforward ... 8
    Plasma Activated Organic Fertilizer 8

    2019-2021年文章被引用數(shù)據(jù)

    被引用期刊名稱(chēng) 數(shù)量
    PLASMA CHEM PLASMA P 289
    J PHYS D APPL PHYS 241
    IEEE T PLASMA SCI 106
    PLASMA SCI TECHNOL 95
    CHEM ENG J 92
    PLASMA SOURCES SCI T 82
    PLASMA PROCESS POLYM 79
    PHYS PLASMAS 48
    SURF COAT TECH 46
    J APPL PHYS 39

    2019-2021年引用數(shù)據(jù)

    引用期刊名稱(chēng) 數(shù)量
    J PHYS D APPL PHYS 308
    PLASMA CHEM PLASMA P 289
    PLASMA SOURCES SCI T 186
    IEEE T PLASMA SCI 101
    PLASMA PROCESS POLYM 97
    J APPL PHYS 74
    CHEM ENG J 69
    APPL PHYS LETT 64
    APPL CATAL B-ENVIRON 58
    J CHEM PHYS 53

    相關(guān)期刊

    免責(zé)聲明

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