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    Journal Of Laser Applications

    評價信息:

    影響因子:1.7

    年發(fā)文量:166

    激光應用雜志 SCIE

    Journal Of Laser Applications

    《激光應用雜志》(Journal Of Laser Applications)是一本以光學-物理綜合研究為特色的國際期刊。該刊由Laser Institute of America出版商創(chuàng)刊于1988年,刊期Quarterly。該刊已被國際重要權(quán)威數(shù)據(jù)庫SCIE收錄。期刊聚焦光學-物理領域的重點研究和前沿進展,及時刊載和報道該領域的研究成果,致力于成為該領域同行進行快速學術(shù)交流的信息窗口與平臺。該刊2023年影響因子為1.7。CiteScore指數(shù)值為3.6。

    投稿咨詢 加急發(fā)表

    期刊簡介預計審稿時間: 12周,或約稿

    The Journal of Laser Applications (JLA) is the scientific platform of the Laser Institute of America (LIA) and is published in cooperation with AIP Publishing. The high-quality articles cover a broad range from fundamental and applied research and development to industrial applications. Therefore, JLA is a reflection of the state-of-R&D in photonic production, sensing and measurement as well as Laser safety.

    The following international and well known first-class scientists serve as allocated Editors in 9 new categories:

    High Precision Materials Processing with Ultrafast Lasers

    Laser Additive Manufacturing

    High Power Materials Processing with High Brightness Lasers

    Emerging Applications of Laser Technologies in High-performance/Multi-function Materials and Structures

    Surface Modification

    Lasers in Nanomanufacturing / Nanophotonics & Thin Film Technology

    Spectroscopy / Imaging / Diagnostics / Measurements

    Laser Systems and Markets

    Medical Applications & Safety

    Thermal Transportation

    Nanomaterials and Nanoprocessing

    Laser applications in Microelectronics.

    《激光應用雜志》(JLA)是美國激光研究所(LIA)的科學平臺,與 AIP 出版社合作出版。其高質(zhì)量文章涵蓋從基礎和應用研究與開發(fā)到工業(yè)應用的廣泛領域。因此,JLA 反映了光子生產(chǎn)、傳感和測量以及激光安全領域的研發(fā)現(xiàn)狀。

    以下國際知名的一流科學家在 9 個新類別中擔任指定編輯:

    使用超快激光器進行高精度材料加工

    激光增材制造

    使用高亮度激光器進行高功率材料加工

    激光技術(shù)在高性能/多功能材料和結(jié)構(gòu)中的新興應用

    表面改性

    納米制造/納米光子學和薄膜技術(shù)中的激光器

    光譜/成像/診斷/測量

    激光系統(tǒng)和市場

    醫(yī)療應用和安全

    熱傳輸

    納米材料和納米加工

    激光應用在微電子領域。

    《Journal Of Laser Applications》(激光應用雜志)編輯部通訊方式為LASER INST AMER, 13501 INGENUITY DR, SUITE 128, ORLANDO, USA, FL, 32826。如果您需要協(xié)助投稿或潤稿服務,您可以咨詢我們的客服老師。我們專注于期刊咨詢服務十年,熟悉發(fā)表政策,可為您提供一對一投稿指導,避免您在投稿時頻繁碰壁,節(jié)省您的寶貴時間,有效提升發(fā)表機率,確保SCI檢索(檢索不了全額退款)。我們視信譽為生命,多方面確保文章安全保密,在任何情況下都不會泄露您的個人信息或稿件內(nèi)容。

    中科院分區(qū)

    2023年12月升級版

    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

    2022年12月升級版

    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

    2021年12月舊的升級版

    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

    2021年12月基礎版

    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

    2021年12月升級版

    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)

    2020年12月舊的升級版

    大類學科 分區(qū) 小類學科 分區(qū) Top期刊 綜述期刊
    工程技術(shù) 4區(qū) MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY 材料科學:綜合 OPTICS 光學 PHYSICS, APPLIED 物理:應用 4區(qū) 4區(qū) 4區(qū)
    名詞解釋:

    基礎版:即2019年12月17日,正式發(fā)布的《2019年中國科學院文獻情報中心期刊分區(qū)表》;將JCR中所有期刊分為13個大類,期刊范圍只有SCI期刊。

    升級版:即2020年1月13日,正式發(fā)布的《2019年中國科學院文獻情報中心期刊分區(qū)表升級版(試行)》,升級版采用了改進后的指標方法體系對基礎版的延續(xù)和改進,影響因子不再是分區(qū)的唯一或者決定性因素,也沒有了分區(qū)的IF閾值期刊由基礎版的13個學科擴展至18個,科研評價將更加明確。期刊范圍有SCI期刊、SSCI期刊。從2022年開始,分區(qū)表將只發(fā)布升級版結(jié)果,不再有基礎版和升級版之分,基礎版和升級版(試行)將過渡共存三年時間。

    JCR分區(qū)(2023-2024年最新版)

    JCR分區(qū)等級:Q3

    按JIF指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
    學科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 321 / 438

    26.8%

    學科:OPTICS SCIE Q3 73 / 119

    39.1%

    學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 125 / 179

    30.4%

    按JCI指標學科分區(qū) 收錄子集 分區(qū) 排名 百分位
    學科:MATERIALS SCIENCE, MULTIDISCIPLINARY SCIE Q3 267 / 438

    39.16%

    學科:OPTICS SCIE Q3 75 / 120

    37.92%

    學科:PHYSICS, APPLIED SCIE Q3 111 / 179

    38.27%

    Gold OA文章占比 研究類文章占比 文章自引率
    17.18% 96.99% 0.09...
    開源占比 出版國人文章占比 OA被引用占比
    0.09... -- 0.05...

    名詞解釋:JCR分區(qū)在學術(shù)期刊評價、科研成果展示、科研方向引導以及學術(shù)交流與合作等方面都具有重要的價值。通過對期刊影響因子的精確計算和細致劃分,JCR分區(qū)能夠清晰地反映出不同期刊在同一學科領域內(nèi)的相對位置,從而幫助科研人員準確識別出高質(zhì)量的學術(shù)期刊。

    CiteScore 指數(shù)(2024年最新版)

    CiteScore SJR SNIP CiteScore 指數(shù)
    3.6 0.422 0.803
    學科類別 分區(qū) 排名 百分位
    大類:Physics and Astronomy 小類:Instrumentation Q2 66 / 141

    53%

    大類:Physics and Astronomy 小類:Atomic and Molecular Physics, and Optics Q2 106 / 224

    52%

    大類:Physics and Astronomy 小類:Electronic, Optical and Magnetic Materials Q3 145 / 284

    49%

    大類:Physics and Astronomy 小類:Biomedical Engineering Q3 177 / 303

    41%

    名詞解釋:CiteScore是基于Scopus數(shù)據(jù)庫的全新期刊評價體系。CiteScore 2021 的計算方式是期刊最近4年(含計算年度)的被引次數(shù)除以該期刊近四年發(fā)表的文獻數(shù)。CiteScore基于全球最廣泛的摘要和引文數(shù)據(jù)庫Scopus,適用于所有連續(xù)出版物,而不僅僅是期刊。目前CiteScore 收錄了超過 26000 種期刊,比獲得影響因子的期刊多13000種。被各界人士認為是影響因子最有力的競爭對手。

    數(shù)據(jù)趨勢圖

    歷年中科院分區(qū)趨勢圖

    歷年IF值(影響因子)

    歷年引文指標和發(fā)文量

    歷年自引數(shù)據(jù)

    發(fā)文數(shù)據(jù)

    2019-2021年文章引用數(shù)據(jù)

    文章引用名稱 引用次數(shù)
    High efficiency femtosecond laser ablati... 12
    Microstructure evolution during selectiv... 12
    Direct measurements of laser absorptivit... 10
    Toward application of hierarchical struc... 9
    Nanostructuring of laser textured surfac... 9
    Comparative study between CW and PW emis... 8
    Comparative study of stainless steel AIS... 7
    Experimental and theoretical investigati... 6
    Estimation of melt pool size by compleme... 6
    Wettability transition modes of aluminum... 6

    2019-2021年文章被引用數(shù)據(jù)

    被引用期刊名稱 數(shù)量
    J LASER APPL 167
    OPT LASER TECHNOL 87
    INT J ADV MANUF TECH 81
    MATERIALS 62
    J MANUF PROCESS 54
    J MATER PROCESS TECH 54
    APPL SURF SCI 47
    INT J HEAT MASS TRAN 42
    ADDIT MANUF 37
    METALS-BASEL 31

    2019-2021年引用數(shù)據(jù)

    引用期刊名稱 數(shù)量
    J LASER APPL 167
    APPL SURF SCI 123
    J MATER PROCESS TECH 121
    OPT LASER TECHNOL 85
    MATER DESIGN 76
    INT J ADV MANUF TECH 71
    MAT SCI ENG A-STRUCT 62
    J APPL PHYS 54
    APPL PHYS A-MATER 52
    J PHYS D APPL PHYS 52

    相關期刊

    免責聲明

    若用戶需要出版服務,請聯(lián)系出版商:LASER INST AMER, 13501 INGENUITY DR, SUITE 128, ORLANDO, USA, FL, 32826。